单项选择题
PVD是指()
A.物理汽相淀积B.等离子体C.汽相外延D.二氧化硅
单项选择题 化学汽相淀积的英文缩写是()
单项选择题 以下属于新应用/新需求驱动产生的芯片公司是()
单项选择题 156工程上马()年以后,中国第一台自主研制的集成电路计算机样机在北京完成。