单项选择题
化学机械抛光液的主要成分不包括的是哪个？（）
A.还原剂B.分散剂C.腐蚀介质D.磨料
多项选择题 CMP的设备构成包括（）。
多项选择题 新的平坦化方法有哪几个？（）
多项选择题 光刻工艺对准误差包括（）。
