判断题
EUV技术里所有设备均需要工作在高真空环境下。
正确
判断题 干氧氧化所形成的氧化膜结构最疏松。
判断题 干氧氧化和水汽氧化都是热氧化的方法。
判断题 集成电路制造中,二氧化硅可以用热氧化、化学汽相沉积、原子层沉积法等方法获得。