问答题
简述接触式光刻、接近式光刻及投影式光刻的优缺点。
接触式光刻：分辨率较高，但是容易造成掩模版和光刻胶膜的损伤。采用接触式光刻很难得到没有缺陷的超大规模集成电路......
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问答题 简述P衬底N阱CMOS的工艺流程。
问答题 CMOS集成电路有哪些特点？
问答题 埋层有什么作用？说明埋层与衬底掺杂类型、掺杂浓度之间的关系。
