单项选择题
湿法刻蚀中,()的腐蚀液是以氢氟酸为基础的水溶液。
A.硅B.铝C.二氧化硅D.砷化镓
单项选择题 ()可以利用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料,从而把光刻胶上的图形转移到薄膜上的过程。
单项选择题 在涂胶过程中,要想得到较厚的光刻胶,在选择光刻胶和设置转速时需要注意()
单项选择题 光刻的流程正确的是()