问答题
叙述氮化硅的湿法化学去除工艺。
去除氮化硅使用热磷酸进行湿法化学剥离掉的。这种酸槽一般始终维持在160℃左右并对露出的氧化硅具有所希望的高选择比。用热磷......
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问答题 哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。
问答题 描述电子回旋共振（ECR）。
问答题 解释发生刻蚀反应的化学机理和物理机理。
