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集成电路工艺原理

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判断题

离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度,因而在几乎所有应用中都优于扩散。

【参考答案】

错误

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判断题 离子注入的缺点之一是注入设备的复杂性。

判断题 离子注入物质必须以带电粒子束或离子束的形式存在。

判断题 离子注入是一个物理过程,不发生化学反应。

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