单项选择题
WCVD工艺第一步是()。
A.浸润B.成核C.BULKD.直接反应
单项选择题 Liner barrier阻挡金属间扩散作用的金属是()。
单项选择题 掺氯氧化使用的HCL是()。
单项选择题 二氧化硅中每个硅原子周围有()个氧原子。