问答题
哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。
多晶硅等离子刻蚀用的化学气体通常是氯气、溴气或二者混合气体。刻蚀多晶硅的三步工艺：1.预刻蚀，用于去除自然氧......
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问答题 定义刻蚀速率并描述它的计算公式。为什么希望有高的刻蚀速率？
问答题 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。
问答题 解释光刻胶选择比。要求的比例是高还是低？
