判断题 快速热处理是一种小型的快速加热系统，带有辐射热和冷却源，通常一次处理一片硅片。

判断题 用于亚0.25μm工艺的选择性氧化的主要技术是浅槽隔离。

判断题 传统的0.25μm工艺以上的器件隔离方法是硅的局部氧化。