多项选择题
集成电路中所选金属化材料的特点有（）
A.良好的导电性B.与半导体有良好的接触性C.良好的稳定性D.良好的工艺兼容性
多项选择题 PVD的主要用途（）
多项选择题 PVD的特点是（）
多项选择题 PCV的具体方法有（）
