问答题
简述什么是浅槽隔离STI及优点。
浅槽隔离是在衬底上通过刻蚀槽、氧化物填充及氧化物平坦化等步骤，制作晶体管有源区之间的隔离区的一种工艺。它取代了LOCOS......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
问答题 简述LOCOS隔离原理。
问答题 简述倒掺杂阱技术的步骤。
问答题 简述先进的0.18μmCMOS集成电路工艺技术工艺步骤。
