单项选择题
下列是ULVAC设备制造中常用成膜方式的是（）。
A.PVD和CVDB.PVD和电镀C.CVD和电镀D.电镀和阳极氧化
单项选择题 以下不属于无机半导体的是（）。
单项选择题 使用最广泛的元素半导体是（）。
单项选择题 通常在PVD工艺中，最重要的是什么气体的监控？（）
