判断题 集成电路制造中，二氧化硅可以用热氧化、化学汽相沉积、原子层沉积法等方法获得。

判断题 二氧化硅可以作为器件的保护层和钝化层。

判断题 硅、二氧化硅系统中存在可动离子电荷。