单项选择题
以下哪个不是CVD成膜的特点?()
A.成膜过程简单B.段差覆盖性好C.组成可控性D.可沉积各类复杂功能膜
单项选择题 隔膜真空计原理是测试隔膜()得出结果。
单项选择题 下列哪种真空计属于基于气体输送现象的真空计?()
单项选择题 半导体加工过程中,需要反复多次进行的工艺过程有()。