black

配位化学基础

登录

填空题

四配位平面四方形Fe(II)卟啉配合物的轴向位置还可结合两个配位体。配位数最大的配合物[FePL2]( P代表卟啉,L代表另外的配体)为低自旋,而[FePL]则为高自旋。第二步(生成[FePL2])形成常数大于第一步(生成[FePL])的原因是()。

【参考答案】

由高自旋态到低自旋态LFSE增大

相关考题

问答题 回答下列问题: (1)给出d区能形成平面四方形配合物的元素的元素符号及其氧化态; (2)给出三例平面四方形配合物的化学式。

问答题 Cd2+与Br-之间形成的配合物的逐级形成常数如下:K1=1.56,K2=0.54,K3=0.06,K4=0.37,试解释为什么K4大于K3?

问答题 下列氧化物都具有岩盐(NaCl)结构,其晶格焓的大小变化趋势如下: 这一变化趋势的原因是什么?

All Rights Reserved 版权所有©财会考试题库(ckkao.com)

备案号:湘ICP备2022003000号-2