判断题
NMOS是在N阱上形成P沟道的MOSFET晶体管。
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判断题 PMOS是在N阱上形成P沟道的MOSFET晶体管。
判断题 集成电路制造需要在告别净化环境下进行,通常净化室内气压应高于净化室外气压。
判断题 集成电路制造需要在告别净化环境下进行,而光刻区对净化级别要求最高,如普通制造环境为1000级,则光刻区的净化环境则为10000级。