判断题
氮化硅去除使用的是磷酸药液。
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判断题 驻波效应破坏了光刻胶图形侧壁的垂直性,也导致光刻胶CD测量的不稳定。
判断题 硅片边缘匀胶后出现毛边异常,是因为EBR药液量不足。
判断题 在产品加工过程中,除了光刻工序外,其他工序是不允许返工的。