多项选择题
回态源扩散的杂质源有()
A.硼酸三甲酯B.氮化硼C.硼D.磷微晶玻璃片
多项选择题 在离子注入完成后,检验到硅片表面有颗粒污染严重的情况,该情况引起的主要问题有()
多项选择题 分结深是重要的结构参数,在检验时发现超浅结注入时,判断其造成原因有()
多项选择题 以下是离子注入过程中的主要参数的是()