填空题 干法刻蚀的方式主要有：溅射刻蚀、等离子体刻蚀、（）刻蚀三种。

填空题 多组分多源蒸发的方法有：同时蒸发，（）蒸发两种。

填空题 制备TiO2等介质薄膜可以采用（）溅射方法。