判断题
CVD TiN的工艺温度不能超过350C。
错误
判断题 窄线效应:Gate line width小于1um,Ti salicide的薄膜电阻明显上升。
判断题 MRC是一种溅射工艺机台。
判断题 溅射法可以保持复杂合金原组分。