判断题
低压外延反应器内压力应控制在1~20kPa。
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判断题 低阻衬底上生长高阻外延层称为正向外延。
判断题 集成电路制造中,二氧化硅可以用热氧化.化学汽相沉积.原子层沉积法等方法获得。
判断题 结晶型的二氧化硅就是石英。