单项选择题

A.畴壁的迁移通过磁矩方向改变实现
B.畴壁从杂质脱离,引起退磁能降低
C.缺陷和杂质等是技术磁化过程的阻力之一
D.磁畴旋转的结果使Ms稳定在原磁化方向和磁场方向间总能量最小的角度上