判断题
集成电路制造中,二氧化硅可以用热氧化、化学汽相沉积、原子层沉积法等方法获得。
正确
判断题 二氧化硅可以作为器件的保护层和钝化层。
判断题 硅、二氧化硅系统中存在可动离子电荷。
判断题 外延温度高于1000℃称为高温外延。