问答题
简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。
P阱光刻,光刻有源区,光刻多晶硅,P+区光刻,N+区光刻,光刻接触孔,光刻铝线。
问答题 简单叙述一下pn结隔离的NPN晶体管的光刻步骤。
问答题 在制作晶体管的时候,衬底材料电阻率的选取对器件有何影响是?
问答题 简述四层三结的结构的双极型晶体管中隐埋层的作用。