问答题
简述几种常见的光刻方法。
接触式光刻：分辨率较高，但是容易造成掩模版和光刻胶膜的损伤。接近式曝光：在硅片和掩膜版之间有一个很小的间隙（......
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问答题 负胶是怎样的？
问答题 简述正胶。
问答题 光刻三要素分别是什么？
