单项选择题
P5000机台属于哪种类型的CVD工艺（）
A.APCVDB.LPCVDC.PCVDD.PECVD
单项选择题 溅射过程中通过将哪种气体轰击靶材（）
问答题 为什么同一膜层的所有透过率极大值都相等？
问答题 TiO2膜层的所有透过率极小值均不相等说明了什么？
