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多项选择题
CMP的设备构成包括（）。
A.台板
B.抛光液
C.抛光垫
D.夹持设备 -
多项选择题
新的平坦化方法有哪几个？（）
A.固结磨料CMP技术
B.无磨粒CMP技术
C.无应力抛光技术
D.电化学机械平坦化技术 -
多项选择题
光刻工艺对准误差包括（）。
A.上下偏移
B.X或Y方向的平移
C.转动
D.套准误差
