问答题
简答题
IC制造中常采用什么方法形成金属层?它的作用是什么?
【参考答案】
金属层的形成主要采用物理汽相沉积(Pysical Vapor Deposition,简称PVD)技术......
(↓↓↓ 点击下方‘点击查看答案’看完整答案 ↓↓↓)
点击查看答案
相关考题
-
问答题
掺杂的目的是什么?举出两种掺杂方法并比较其优缺点。 -
问答题
试述曝光时间对设计的图形的影响。 -
问答题
光刻胶正胶和负胶的区别是什么?
