判断题
P1848设备TEOS水浴加热后通过He携带进入腔体与O2气发生反应生成SiO2。（）
【参考答案】
正确
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A.N2
B.O2
C.He
D.水浴饱和蒸汽 -
单项选择题
下列哪种工艺会使用到RF？（）
A.电镀
B.SOG
C.APCVD
D.PECVD
