相关考题
-
单项选择题
在硅片的抛光过程中，下列因素中不是影响粗抛的主要因素是（）。
A.粗抛液的浓度
B.粗抛时间
C.溶液的密度
D.溶液的温度 -
单项选择题
常温下本征半导体硅的禁带宽度为（）eV。
A.1.12
B.2.14
C.1.42
D.0.92 -
单项选择题
按照能带结构理论，本征半导体的能带可以分为（）个。
A.1
B.2
C.3
D.4
