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判断题
在CMP设备中被广泛采用的终点检测方法是光学干涉终点检测。
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判断题
电机电流终点检测不适合用作层间介质的化学机械平坦化。
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反刻是一种传统的平坦化技术,它能够实现全局平坦化。
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