欢迎来到财会考试题库网
财会考试题库官网
登录
注册
首页
经济师考试
会计职称考试
统计师考试
审计师考试
保险考试
全部科目
>
大学试题
>
工学
>
电子与通信技术
>
集成电路技术
>
集成电路工艺原理
搜题找答案
判断题
硅上的自然氧化层并不是一种必需的氧化材料，在随后的工艺中要清洗去除。
【参考答案】
正确
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
判断题
二氧化硅是一种介质材料，不导电。
判断题
暴露在高温的氧气氛围中，硅片上能生长出氧化硅。生长一词表示这个过程实际是消耗了硅片上的硅材料。
判断题
当硅片暴露在空气中时，会立刻生成一层无定形的氧化硅薄膜。
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题
