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单项选择题
硅片抛光在原理上不可分为（）
A.机械抛光法
B.化学抛光法
C.手工抛光法
D.机械--化学抛光法 -
单项选择题
可用作硅片的研磨材料是（）
A.AL2O3
B.MGO
C.BA2O3
D.NACL -
单项选择题
热处理中氧沉淀的形态不包括（）
A.球状沉淀
B.片状沉淀
C.棒状沉淀
D.多面体沉淀
