欢迎来到财会考试题库网
财会考试题库官网
登录
注册
首页
经济师考试
会计职称考试
统计师考试
审计师考试
保险考试
全部科目
>
大学试题
>
理学
>
物理学
>
薄膜物理与技术
搜题找答案
判断题
CVD TiN的工艺温度不能超过350C。
【参考答案】
错误
点击查看答案
上一题
目录
下一题
相关考题
判断题
窄线效应：Gate line width小于1um，Ti salicide的薄膜电阻明显上升。
判断题
MRC是一种溅射工艺机台。
判断题
溅射法可以保持复杂合金原组分。
关注
顶部
微信扫一扫,加关注免费搜题
