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干法腐蚀清洁、干净、无脱胶现象、图形精度和分辨率高。（）
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判断题
设备、试剂、气瓶等所有物品不需经严格清洁处理，可直接进入净化区。（）
判断题
光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（）
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半导体芯片制造工艺对水质的要求一般.（）
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