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填空题
目前常用的CVD系统有()、()和()。
【参考答案】
APCVD;LPCVD;PECVD
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填空题
立式炉的工艺腔或炉管是对硅片加热的场所,它由垂直的()、()和()组成。
填空题
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填空题
列出热氧化物在硅片制造的4种用途()、()、场氧化层和()。
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