单项选择题
下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。
A.烘烤的目的是除去光刻胶中的水分
B.烘烤可以减轻曝光中的驻波效应
C.烘烤的温度一般在300℃左右
D.烘烤的时间越长越好
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多项选择题
下列有关曝光系统的说法正确的是（）。
A.投影式同接触式相比，掩模版的利用率比较高
B.接触式的分辨率优于接近式
C.接近式的分辨率受到衍射的影响
D.投影式曝光系统中不会产生衍射现象
E.投影式曝光是目前采用的主要曝光系统 -
多项选择题
按曝光的光源分类，曝光可以分为（）。
A.光学曝光
B.离子束曝光
C.接近式曝光
D.电子束曝光
E.投影式曝光 -
单项选择题
在VLSI工艺中，常用的前烘方法是（）。
A.热空气对流法
B.真空热平板传导法
C.红外线辐射法
D.射频感应加热法
