欢迎来到财会考试题库网 财会考试题库官网
logo
全部科目 > 大学试题 > 工学 > 电子与通信技术 > 集成电路技术 > 集成电路技术综合练习

单项选择题

()是使硅片上的局部区域达到平坦化。

    A.平滑处理
    B.部分平坦化
    C.局部平坦化
    D.全局平坦化

点击查看答案&解析

相关考题

微信小程序免费搜题
微信扫一扫,加关注免费搜题

微信扫一扫,加关注免费搜题