单项选择题
下列有关离子注入机基本单元定义说法错误的是（）。
A.I/S是元素电离后形成离子，施加高电压引出加速的场所B.B/L是施加电压加速，并对束流整形，约束并扫描的场所C.E/S是基板设定，离子注入的场所D.Load/Unload是基板传送进出的场所
单项选择题 避免坩埚影响而使用的MCZ法在多少寸硅基板上是主流？（）
单项选择题 硅添加磷后会形成什么型硅？（）
单项选择题 由螺旋状的静涡旋和动涡盘组成，通过偏心运动涡旋来输送气体并排气，是指哪种类型的干泵？（）
