多项选择题
为减少自掺杂现象，可以采取的措施有：（）
A.衬底背面用高纯硅或二氧化硅覆盖B.用两步外延法C.低压外延法D.降低外延生长温度
多项选择题 PVD的种类有（）
多项选择题 CVD的特点是（）
单项选择题 选择外延的简称是（）
