问答题
磁控溅射典型的工艺参数？
工作压力0.5Pa，靶电压300-600V，靶电流密度20mA/cm2，沉积速率2μm/min。
问答题 什么是离子束溅射？
问答题 为什么射频溅射可以溅射非导电靶材？
问答题 什么是二极溅射？其工艺参数如何？
