问答题
说明扩散杂质的高斯分布特点（有限源扩散属于此分布）
①在整个扩散过程中，杂质总量保持不变； ②扩散时间越长，扩散温度越高，则杂质扩散得越深，表面浓度越低； ③表面杂质浓度可控。
问答题 说明扩散杂质的余误差函数分布特点（恒定表面源扩散属于此分布）
问答题 杂质在硅中有哪些扩散机制？
问答题 简述热生长氧化层与沉积氧化层的区别。
