单项选择题
刻蚀氮化硅薄膜时，可以用加热的磷酸进行刻蚀，此时的温度一般设置在（）
A.70～100℃B.130～150℃C.150～170℃D.170～200℃
单项选择题 一般情况下，刻蚀完成后需要进行的操作是（）
多项选择题 最常用的砷化橡的湿法刻蚀腐蚀液包括（）
多项选择题 回态源扩散的杂质源有（）
