判断题
Al膜反射率过高,会对光刻产生不利影响。
正确
判断题 为了不与薄膜成分发生反应,溅射气体通常使用惰性气体。
判断题 大尺寸的晶粒有利于防止电迁移。
判断题 CVD TiN的工艺温度不能超过350C。