问答题
常规双极型工艺需要几次光刻?每次光刻分别有什么作用?
问答题 双极、CMO和BiCMOS集成电路器件各有何特点?
问答题 为什么在相同工艺条件和相同几何尺寸下NMOS管速度要高于PMOS管?如果相同栅长的N管和P管要达到相同的速度,理论上N管和P管要满足什么条件?
问答题 简述CMOS工艺的基本工艺流程(以1×poly,2×metal N阱为例)。