判断题 制备光刻掩膜版，希望黑白区域间的过渡区越大越好。

判断题 在紫外光曝光、X射线曝光、电子束曝光技术中可实现直写式曝光不需要掩模版的是X射线曝光技术。

判断题 通常称在低阻衬底材料上生长高阻外延层的工艺为正向外延，反之称为反向外延。