判断题 热扩散掺杂工艺可以一步实现。

判断题 把硅片对离子注入的方向倾斜30度可抑制通道效应。

判断题 使用化学腐蚀法检查针孔时，硅表面的腐蚀坑数目就是二氧化硅的针孔数目。