单项选择题
蒸发台以下哪项参数对膜厚影响最大（）
A.行星架转速B.加热温度C.熔源时间D.tooling值
单项选择题 P5000设备气态源制备SIN工艺中参与反应的气体是（）
单项选择题 溅射台使用的AlSi靶材中，Si的含量是（）
单项选择题 P5000机台属于哪种类型的CVD工艺（）
