单项选择题
在半导体生产中，常常采用的氧化方式是“干-湿-干”氧化，湿氧氧化的作用是（）
A.较短的时间得到较厚的薄膜B.得到较好的表面C.较好的二氧化硅特性D.提高氧化膜的质量
单项选择题 氧化层上表面的二氧化硅是（）生长的。
单项选择题 氧化速率跟氧化温度之间的关系是什么（）
单项选择题 （）可以很大程度降低氧化层钠离子的沾污。
